据路透社报谈，由微软投资的挪威初创企业Lace Lithography于周一完成 4000 万好意思元 A 轮融资，用于研发一款芯片制造缔造。该缔造不选拔光源，而是行使氦原子束在硅片上进行图形刻蚀。

该公司称，那时期可制造出比现存光刻系统小 10 倍的芯片特征尺寸：缔造光束宽度仅 0.1 纳米，而阿斯麦（ASML）极紫外光刻机（EUV）所使用的波长为 13.5 纳米。Lace Lithography主张在 2029 年前于检修性晶圆厂部署一台测试缔造。

Lace Lithography系统的上风在于原子不存在衍射极限；而包括阿斯麦 EUV 在内的传统光子光刻时期，均受限于所使用光的波长。跟着芯片厂商不停追求更小的制程尺寸，不得不选拔日益复杂的多重曝光时期来突破这一为止。但Lace Lithography全齐绕开了这一贫苦，改用中性氦原子替代光子，其原子束宽度仅极度于单个氢原子大小。

比利时微电子野心中心（Imec）光刻科学总监约翰・彼得森向路透社默示，该时期有望将晶体管过火他芯片结构尺寸减轻一个数目级，达到 “险些难以思象” 的水平。Lace Lithography首席践诺官兼掂量首创东谈主博迪尔・霍尔斯特称，该时期可让芯片制造商已矣“终极原子级辨认率” 的晶圆光刻。

Lace Lithography将那时期体系称为“BEUV”，即突出极紫外光刻。公司由卑尔根大学物理学家霍尔斯特与掂量首创东谈主阿德里亚・萨尔瓦多・帕劳于 2023 年创立，当今在挪威、西班牙、英国和荷兰领有超 50 名职工，并于上月在 2026 年海外光学工程学会（SPIE）先进光刻与图形化会议上公布了相关野心效能。

面前，越来越多初创企业正研发时期有斟酌，试图毁坏阿斯麦在先进光刻领域近乎把持的地位，Lace Lithography即是其中之一。好意思国企业 Substrate 与 xLight 均在研发基于粒子加快器开动光源的极紫外或 X 射线光刻缔造，其中 xLight 已获取好意思国政府 1.5 亿好意思元资助。佳能已于 2024 年 9 月向德州电子野心院拜托首台纳米压印光刻缔造，中国企业璞璘科技（Prinano）也已在国内拜托自研纳米压印系统。

但Lace Lithography的时期道路与上述企业全齐不同。Substrate 与 xLight 仍依赖光子时期，而Lace Lithography则透顶甩掉了电磁发射，这也意味着那时期当今尚无锻练的工艺过程生态可对接。

尽管Lace Lithography已搭建出原型系统，但从实验室走向量产仍存在雄伟范畴。公司当今运筹帷幄于 2029 年在检修产线部署测试缔造欧洲杯体育，而确切已矣范围化量产仍需漫万古刻。阿斯麦消耗数十年、干涉数十亿好意思元才将 EUV 从野心办法振荡为商用居品，即便资金充裕的新入局者，也仍需漫长谈路才略已矣时期落地。